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磁性薄膜の磁化反転ダイナミクスの研究

目的

 

概要

ハードディスクでは、高密度記録化とともに記録速度の高速化が求められており、記録速度を決める主因の一つである記録膜・磁気ヘッド用磁性材料の磁化反転速度(N極, S極が反転する速度) が着目されています。磁化反転現象は一種の磁気緩和現象であり、緩和定数が小さいほどゆっくり反転することとなりますが、各種磁性材料の緩和定数は殆ど知られていませんでした。
当研究室では、強磁性共鳴測定装置を用いて磁性体にギガHz帯のマイクロ波を照射したときに得られる吸収スペクトル線幅が緩和定数と密接に関係することに着目し、各種磁性材料の緩和定数の測定を行っています。
この結果、ハードディスクで用いられているCo系の磁性材料では、緩和定数が0.01〜0.05程度の値となり、磁化反転に数ナノ秒を要することを見出しました。この測定手法は、ハードディスクに限らず、高速応答特性が求められる磁気デバイスの磁性材料特性評価に有効と考えています。

代表者、担当組織

稲葉 信幸

担当学部

工学部

連絡先

inaba@yz.yamagata-u.ac.jp

このプロジェクトを支援

山形大学基金(学部等への支援)
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